| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其包括纳米氧化铈磨料抛光液、氧化剂、络合剂、腐蚀抑制剂及化学添加剂。本发明公开的抛光液在氧化铈、氧化剂、络合剂及腐蚀抑制剂的协同作用下，可达到一定的铜抛光去除速率，同时避免或降低抛光后铜表面抛光缺陷的发生。 | ||
| 申请公布号 | CN103865402A | 申请公布日期 | 2014.06.18 |
| 申请号 | CN201210546342.4 | 申请日期 | 2012.12.17 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 尹先升;王雨春 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F3/04(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，其特征在于，包括化学添加剂、研磨粒子、氧化剂、络合剂和腐蚀抑制剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室 | ||