发明名称 |
排放处理液的设备和方法 |
摘要 |
本发明提供了一种排放处理液的设备和方法。门架能够旋转以使与门架连接的喷头的喷嘴能够被置于相对于基板的移动方向倾斜的方向上,然后处理液的液滴能够通过所述喷嘴排放到所述基板上。因此,所述喷嘴的处理液排放间距能够根据所述基板的单元间距进行调整,由此能够将所述处理液(取向液或者液晶)涂布到所述基板上以形成均一的膜。 |
申请公布号 |
CN102151637B |
申请公布日期 |
2014.06.18 |
申请号 |
CN201010563424.0 |
申请日期 |
2010.11.29 |
申请人 |
细美事有限公司 |
发明人 |
金哲佑 |
分类号 |
B05C5/00(2006.01)I;B05C11/00(2006.01)I;B05D1/02(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I;G02F1/1341(2006.01)I |
主分类号 |
B05C5/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种通过喷墨排放法排放处理液的设备,所述设备包括:基板支撑单元,构造成在其上放置基板并且能够沿第一方向移动;门架,布置于所述基板支撑单元的移动通道上方,并且多个喷头连接到所述门架以将处理液排放到基板;和旋转单元,构造成旋转所述门架;所述喷头被设置于所述门架的长度方向;所述门架的一端成为旋转中心,并且所述门架的另一端在所述旋转单元的作用下绕所述旋转中心旋转;所述旋转单元包括:滑动件,构造成由沿所述门架的长度方向布置于所述门架的所述另一端处的导轨引导;第一旋转支撑构件,连接到所述滑动件的底侧;第一线性驱动构件,构造成沿所述第一方向线性地移动所述第一旋转支撑构件;和第二旋转支撑构件,构造成可旋转地支撑所述门架的所述一端。 |
地址 |
韩国忠清南道天安市西北区稷山邑毛枾里278 |