发明名称 一种增强微穿通型IGBT
摘要 本发明公开了一种在微穿通型IGBT的基础上改进,实现导通功率损耗进一步降低的增强微穿通型IGBT,属于半导体器件技术领域。该IGBT包括栅极、栅氧、P<sup>-</sup>基区、源区、第二导电类型P<sup>+</sup>区、漂移区、集电极,漂移区和集电极之间加入有第一导电类型n区,形成微穿通区,微穿通区的掺杂浓度高于漂移区的掺杂浓度;P<sup>-</sup>基区和漂移区之间加入有第一导电类型n区,形成载流子减速层,载流子减速层的掺杂浓度高于漂移区的掺杂浓度。该增强微穿通型IGBT更进一步降低了器件导通功率损耗。
申请公布号 CN103872115A 申请公布日期 2014.06.18
申请号 CN201210540053.3 申请日期 2012.12.13
申请人 中国科学院微电子研究所;上海联星电子有限公司;江苏中科君芯科技有限公司 发明人 朱阳军;张文亮;张杰;田晓丽;卢烁今;胡爱斌
分类号 H01L29/739(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/739(2006.01)I
代理机构 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人 刘丽君
主权项 一种增强微穿通型IGBT,包括栅极、栅氧、P<sup>‑</sup>基区、源区、第二导电类型P<sup>+</sup>区、漂移区、集电极,所述漂移区和所述集电极之间加入有第一导电类型n区,形成微穿通区,所述微穿通区的掺杂浓度高于所述漂移区的掺杂浓度;其特征在于,所述P<sup>‑</sup>基区和所述漂移区之间加入有第一导电类型n区,形成载流子减速层,所述载流子减速层的掺杂浓度高于所述漂移区的掺杂浓度。
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