具有可调介电抛光选择性的浆料组合物及抛光基材的方法

摘要

一种化学机械抛光浆料组合物，包括作为初始成分的：水；研磨剂；如式(I)的卤化季铵化合物；以及，任选地，如式(II)的双季化物质，其中每个A独立地选自N和P；其中R¹选自饱和或不饱和的C₁-C₁₅烷基、C₆-C₁₅芳基和C₆-C₁₅芳烷基；其中R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶和R⁷各自选自氢、饱和或不饱和的C₁-C₁₅烷基、C₆-C₁₅芳基、C₆-C1₅芳烷基和C₆-C₁₅烷芳基；并且其中式(II)中的阴离子可为平衡式(II)中阳离子上的2+电荷的任何阴离子或阴离子的组合。同时，提供制备化学机械抛光浆料组合物的方法和使用化学机械抛光浆料组合物抛光基材的方法。

主权项

1.一种化学机械抛光浆料组合物，所述组合物由作为初始成分的下述组分组成：水；研磨剂，所述研磨剂是胶体二氧化硅研磨剂；如式（I）的卤化季铵化合物：其中R⁸选自C_1-10烷基和C_1-10羟烷基；其中X¹为选自氯化物、溴化物、碘化物和氟化物的卤化物；其中R⁹、R¹⁰和R¹¹各自独立地选自饱和或不饱和的C₁-₁₀烷基、C₁-₁₀卤代烷基、C_6-15芳基、C_6-15卤代芳基、C_6-15芳烷基和C_6-15卤代芳烷基；并且其中式（I）中的阴离子可为平衡式（I）中阳离子上的+电荷的任何阴离子；以及，任选地，如式（II）的双季化物质：其中每个A独立地选自N和P；其中R¹选自饱和或不饱和的C₁-C₁₅烷基、C₆-C₁₅芳基和C₆-C₁₅芳烷基；其中R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶和R⁷各自选自氢、饱和或不饱和的C₁-C₁₅烷基、C₆-C₁₅芳基、C₆-C₁₅芳烷基和C₆-C₁₅烷芳基；并且其中式（II）中的阴离子可为平衡式（II）中阳离子上的2+电荷的任何阴离子或阴离子的组合；以及任选的，选自磷酸、硝酸、硫酸、盐酸、氢氧化铵和氢氧化钾的pH调节剂；所述化学机械抛光浆料组合物的pH值为2到小于7。