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经营范围
发明名称
用于薄膜形成之沈积系统
摘要
申请公布号
TWI441273
申请公布日期
2014.06.11
申请号
TW097136922
申请日期
2008.09.25
申请人
柯达公司 美国
发明人
罗杰Ｓ 柯尔;大卫Ｈ 李维
分类号
H01L21/67;H01L21/205;C23C16/54
主分类号
H01L21/67
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
美国
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