| 发明名称 |
薄膜形成方法、有机电激发光元件之制造方法、半导体元件之制造方法及光学元件之制造方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI441257 |
申请公布日期 |
2014.06.11 |
| 申请号 |
TW097124055 |
申请日期 |
2008.06.27 |
| 申请人 |
住友化学股份有限公司 日本 |
发明人 |
伊藤范人 |
| 分类号 |
H01L21/312;H01L51/50;H05B33/10 |
主分类号 |
H01L21/312 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
