发明名称 | 自动抛光系统和方法 | ||
摘要 | 本发明公开一种自动抛光系统,所述自动抛光系统包括:抛光器,所述抛光器用于抛光物品上的涂层;自动定位器,所述自动定位器用于使所述抛光器在自动路径上相对于所述物品移动,其中所述抛光器在移动过程中对所述涂层的至少一部分进行抛光;力反馈传感器,所述力反馈传感器用于确定在抛光过程中所述抛光器对所述物品的力;以及控制器,所述控制器用于至少部分基于由所述力反馈传感器确定的所述力来将所述抛光器对所述物品的作用维持在预定的力范围内。 | ||
申请公布号 | CN103846771A | 申请公布日期 | 2014.06.11 |
申请号 | CN201310646850.4 | 申请日期 | 2013.12.04 |
申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | M.L.亨特 |
分类号 | B24B29/02(2006.01)I | 主分类号 | B24B29/02(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 肖日松;严志军 |
主权项 | 一种用于抛光具有涂层的物品的自动抛光系统,所述自动抛光系统包括:抛光器,所述抛光器用于抛光所述物品上的所述涂层;自动定位器,所述自动定位器用于使所述抛光器在自动路径上相对于所述物品移动,其中所述抛光器在移动过程中对所述涂层的至少一部分进行抛光;力反馈传感器,所述力反馈传感器用于确定在抛光过程中所述抛光器对所述物品的力;和控制器,所述控制器用于至少部分基于由所述力反馈传感器确定的所述力来将所述抛光器对所述物品的作用维持在预定的力范围内。 | ||
地址 | 美国纽约州 |