改进抛光件吸附方式的抛光机

摘要

本发明公开了一种改进抛光件吸附方式的抛光机，包括机架、吸附上盘、吸附下盘、上盘驱动系统、下盘驱动系统和抽真空系统，上/下盘驱动系统包括一中心轴，中心轴的底部与吸附上/下盘相连接，中心轴内开设有封闭式连接气路，中心轴靠近底部位置设有一旋转气路接头，旋转气路接头连通至封闭式连接气路，旋转气路接头外气路接口，吸附上/下盘开设有气路通孔，各气路接口通过连接气管与吸附上/下盘上开设的气路通孔连通；吸附上/下盘的下/上方设有紧贴其下表面的缓冲垫，缓冲垫的表面开设有通透式吸附槽，气路通孔的下/上端对齐吸附槽。本发明的结构简单、成本低、投资小、操作方便，有利于实现后期自动化抛光。

主权项

一种改进抛光件吸附方式的抛光机，包括机架、吸附上盘、吸附下盘、上盘驱动系统、下盘驱动系统和抽真空系统，上盘驱动系统包括一中心轴，中心轴的底部与吸附上盘相连接，其特征在于：所述中心轴内开设有封闭式连接气路，中心轴靠近底部位置设有一旋转气路接头，旋转气路接头的内端通过封闭式连接气路与所述抽真空系统相连，旋转气路接头的外端设有多个气路接口，所述吸附上盘开设有多个气路通孔，各气路接口通过连接气管与吸附上盘上开设的气路通孔的上端连通；所述吸附上盘下方设有紧贴其下表面的缓冲垫，所述缓冲垫的表面开设有通透式吸附槽，所述气路通孔的下端对齐所述吸附槽。