具有螺旋预热通道的合成反应器

摘要

一种具有螺旋预热通道的合成反应器，涉及到一种化学合成反应设备。主要由上端头、反应室壁体、螺旋导流板、上隔板、下隔板、下端头和反应器壳体组成，其中，反应器壳体围护在反应室壁体的外围，反应器壳体与反应室壁体之间有空间，螺旋导流板以盘旋方式设置在反应器壳体与反应室壁体之间的空间中，使反应器壳体与反应室壁体之间的空间形成螺旋预热通道；螺旋预热通道的上端由上隔板进行封闭，下隔板封闭在螺旋预热通道的下端和反应室的下端；反应室壁体的下部有环绕分布的过孔群，螺旋预热通道的下部由过孔群连通到反应室的下部。本实用新型的螺旋预热通道能更充分利用反应室内的反应热来加热原料气或未反应气，更容易催化合成目标产物。

主权项

一种具有螺旋预热通道的合成反应器，其特征是合成反应器主要由上端头（1）、反应室壁体（10）、螺旋导流板（4）、上隔板（36）、下隔板（11）、下端头（17）和反应器壳体（5）组成，其中，反应室壁体（10）呈圆筒体结构，反应室壁体（10）圆筒体结构的内空间构成反应室（Ⅱ）；反应器壳体（5）呈圆筒体结构，反应器壳体（5）围护在反应室壁体（10）的外围，反应器壳体（5）与反应室壁体（10）之间有空间，螺旋导流板（4）以盘旋方式设置在反应器壳体（5）与反应室壁体（10）之间的空间中，使反应器壳体（5）与反应室壁体（10）之间的空间形成螺旋预热通道（Ⅰ）；螺旋预热通道（Ⅰ）的上端由上隔板（36）进行封闭，上隔板（36）呈圆环形结构，上隔板（36）连接在反应器壳体（5）与反应室壁体（10）之间；下隔板（11）呈圆盘形结构，下隔板（11）封闭在螺旋预热通道（Ⅰ）的下端和封闭在反应室（Ⅱ）的下端构成反应室（Ⅱ）的底壁；反应室壁体（10）的下部有环绕分布的过孔群（25），螺旋预热通道（Ⅰ）的下部由过孔群（25）连通到反应室（Ⅱ）的下部，螺旋预热通道（Ⅰ）的上部有循环气输入口（35）接入；上端头（1）安装在反应器壳体（5）的上端口，上端头（1）与反应器壳体（5）的上部围护的空间构成上气室（Ⅵ），上气室（Ⅵ）有混合气输出接口（38）接出；下端头（17）安装在反应器壳体（5）的下端口，下端头（17）与反应器壳体（5）的下部围护的空间构成下气室（Ⅳ），下气室（Ⅳ）的上部有混合气输入接口（21）接入，下气室（Ⅳ）的下部为集液区，集液区的底部有产物出口（19）接出。