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发明名称 曝光装置、曝光方法、元件制造方法
摘要
申请公布号 TWI440981 申请公布日期 2014.06.11
申请号 TW093137281 申请日期 2004.12.03
申请人 尼康股份有限公司 日本 发明人 长坂博之;高岩宏明;蛭川茂;星加隆一;石泽均
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本
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