| 发明名称 | 一种石墨烯纳米带及其制备方法和在透明电极中的应用 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种石墨烯纳米带的制备方法，该方法包括以下步骤：（1）将含有可纺高分子的溶液或熔融体通过静电纺丝沉积于石墨烯薄膜上形成掩模板；（2）将没有被所述掩模板覆盖的石墨烯薄膜上的石墨烯刻蚀掉；（3）将所述掩模板去除形成石墨烯纳米带；本发明还提供了由上述方法制备的石墨烯纳米带及其在透明电极中的应用。该方法具有工艺简单、成本低和易于大规模制备等优点，而且该方法制备得到的石墨烯纳米带的长度、宽度、厚度以及形态可控。 | ||
| 申请公布号 | CN103848415A | 申请公布日期 | 2014.06.11 |
| 申请号 | CN201210495439.7 | 申请日期 | 2012.11.28 |
| 申请人 | 国家纳米科学中心 | 发明人 | 智林杰;何海勇;王杰 |
| 分类号 | C01B31/04(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;G02F1/155(2006.01)I | 主分类号 | C01B31/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人 | 王凤桐;周建秋 |
| 主权项 | 一种石墨烯纳米带的制备方法，该方法包括以下步骤：（1）将含有可纺高分子的溶液或熔融体通过静电纺丝沉积于石墨烯薄膜上形成掩模板；（2）将没有被所述掩模板覆盖的石墨烯薄膜上的石墨烯刻蚀掉；（3）将所述掩模板去除形成石墨烯纳米带。 | ||
| 地址 | 100190 北京市海淀区中关村北一条11号 | ||