发明名称 |
具有减小的磁头保持间距、头介质间距或头到软底层间距的记录介质 |
摘要 |
本发明公开了具有减小的磁头保持间距、头介质间距或头到软底层间距的记录介质。本发明的多个方面所包括的记录介质通过减小头介质间距、头保持间距、或头到软底层间距,提高了面密度。这些方面包括用磁性材料所构成的组件与成分来替换目前非磁性的设备组件(比如夹层和外涂层)。其它方面涉及在记录介质内所沉积的磁性晶种层。较佳地,这些方面具体实现成方法、系统和/或其组件,减小了有效磁间距,而不牺牲物理间距。 |
申请公布号 |
CN103854674A |
申请公布日期 |
2014.06.11 |
申请号 |
CN201410080609.4 |
申请日期 |
2009.11.24 |
申请人 |
希捷科技有限公司 |
发明人 |
高凯中;陆斌;B·F·法尔库;X·马 |
分类号 |
G11B5/66(2006.01)I;G11B5/667(2006.01)I |
主分类号 |
G11B5/66(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
张欣 |
主权项 |
一种装置,包括:位于基板上的软磁底层(SUL);位于所述SUL上的磁性记录层;位于所述磁性记录层的顶部的铁磁性介质外涂层;位于所述SUL和和所述磁性记录层之间的铁磁性夹层,其中所述铁磁性夹层包括含Ru的第一颗粒状层,且所述第一晶体层位于第二和第三晶体层之间,且所述第二和第三晶体层包括RuCo。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |