发明名称 | 温度测定系统以及温度测定方法 | ||
摘要 | 在温度测定系统和温度测定方法中,高精度地测定温度。包括:输出激光的激光光源(21);铺设于温度测定区域的光纤(24)以及检测入射到光纤(24)内的激光的后方散射光,取得沿光纤(24)的铺设路径的温度测定区域的温度的测定温度分布,并且修正该测定温度分布,计算修正温度分布的温度测定部(27);其中,温度测定部(27)为使沿铺设路径的光纤(24)的传递函数与修正温度分布的卷积与测定温度分布之间的平方误差在每次修正时变小,而对该测定温度分布逐次地进行多次修正,并且每当进行各次的修正时将铺设路径的特定点的修正后的温度替换成该特定点的推断温度。 | ||
申请公布号 | CN102365536B | 申请公布日期 | 2014.06.11 |
申请号 | CN200980158413.X | 申请日期 | 2009.12.22 |
申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 笠屿丈夫;宇野和史;武井文雄 |
分类号 | G01K11/12(2006.01)I | 主分类号 | G01K11/12(2006.01)I |
代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人 | 柳春雷 |
主权项 | 一种温度测定系统,其特征在于,包括:激光光源,该激光光源输出激光;光纤,该光纤被铺设于温度测定区域,所述激光入射到所述光纤中;以及温度测定部,检测入射到所述光纤内的所述激光的后方散射光,取得沿所述光纤的铺设路径的所述温度测定区域的温度的测定温度分布,并且修正该测定温度分布,计算修正温度分布;其中,所述温度测定部为使沿所述铺设路径的所述光纤的传递函数与所述修正温度分布的卷积、与所述测定温度分布之间的平方误差在每次修正时变小,而对该测定温度分布逐次地进行多次修正,并且每当进行各次的修正时将所述温度测定区域内的所述铺设路径的特定点处的修正后的温度替换成该特定点处的推断温度。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |