发明名称 |
快速热处理腔室 |
摘要 |
本发明的实施方式大体涉及RTP腔室。该腔室通常包括腔室主体和腔室盖。该腔室主体包括基板支撑件,该基板支撑件具有多个电阻式加热器区域,以加热定位在该基板支撑件上的基板。该腔室主体视情况也包括冷却通道和热绝缘衬里,冷却通道用于缓和热应力,热绝缘衬里设置在该腔室主体中以容纳热处理期间产生的热。该腔室盖包括盖主体和反射板,该盖主体具有穿过该盖主体的开口,该反射板设置在该开口内。多个高温计定位在该反射板内,以在遍及该基板的多个位置处测量与基板支撑件的这些区域对应的基板的温度。每一个区域的温度被调整以响应来自多个高温计的信号。 |
申请公布号 |
CN103858214A |
申请公布日期 |
2014.06.11 |
申请号 |
CN201280048459.8 |
申请日期 |
2012.10.22 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
柯克·莫里茨;阿伦·缪尔·亨特 |
分类号 |
H01L21/324(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/324(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国;赵静 |
主权项 |
一种腔室,包含:腔室主体;基板支撑件,所述基板支撑件设置在所述腔室主体内,所述基板支撑件具有多个区域,所述多个区域可被独立地加热以加热定位在所述基板支撑件上的基板;以及腔室盖,所述腔室盖设置在所述腔室主体上,所述腔室盖包含:盖主体,所述盖主体包含铝,所述盖主体具有圆形开口,所述圆形开口设置成穿过所述盖主体;反射板,所述反射板定位在所述圆形开口内,并且所述反射板具有表面,所述表面邻近于所述基板支撑件的上表面;以及多个高温计,所述多个高温计设置成穿过形成在所述反射板中的开口,以在遍及所述基板表面的多个位置处测量所述基板的温度,其中所述多个高温计中的每一个高温计对应于所述多个区域中的每一个区域。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |