发明名称 |
一种柱透镜光栅及其制作方法 |
摘要 |
本发明实施例提供一种柱透镜光栅及其制作方法,涉及光学器件制作领域,以使得制作柱透镜的制作工艺简单,并提高柱透镜光栅的精度,该方法包括:在基板上沉积并预固化处理透明薄膜材料,形成至少一层透明薄膜,采用构图工艺,在该至少一层透明薄膜上形成一柱透镜光栅图形,固化该柱透镜光栅图形,形成柱透镜光栅。本发明用于柱透镜光栅的制作。 |
申请公布号 |
CN102654591B |
申请公布日期 |
2014.06.11 |
申请号 |
CN201210117039.2 |
申请日期 |
2012.04.19 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
武延兵 |
分类号 |
G02B5/18(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种柱透镜光栅的制作方法,其特征在于,包括:在基板上沉积并预固化处理透明薄膜材料,形成至少一层透明薄膜,所述的透明薄膜材料为透明光刻胶材料;采用至少两次构图工艺,在所述至少一层透明薄膜上形成一柱透镜光栅图形;所述采用构图工艺包括:对所述透明光刻胶进行曝光和显影工艺,其中,所述对所述透明光刻胶进行曝光工艺包括:通过灰阶掩膜板或者半透式掩膜板对所述透明光刻胶进行曝光工艺;其中,最后一次构图工艺中形成的图形完全覆盖经过所述最后一次构图工艺之前的所有构图工艺后形成的图形;固化所述柱透镜光栅图形,形成柱透镜光栅。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |