发明名称 一种发光二极管的制造方法
摘要 本发明提供一种发光二极管的制造方法,先于半导体衬底表面依次制作N型层、量子阱层、P型层;然后刻蚀所述P型层及量子阱层以形成N电极制备区域;接着于所述P型层表面形成透明导电层,并采用光刻工艺刻蚀所述透明导电层、P型层及量子阱层,以形成多个贯穿至所述N型层的呈周期排列且具有预设孔径的开孔;最后于所述透明导电层表面制作P电极,于所述N电极制备区域制备N电极。本发明具有以下有益效果:本发明在发光二极管中刻蚀出多个周期排列的纳米级开孔,可以有效地提高光的萃取,从而提高发光效率。
申请公布号 CN103855254A 申请公布日期 2014.06.11
申请号 CN201210499489.2 申请日期 2012.11.29
申请人 上海蓝光科技有限公司 发明人 朱广敏;郝茂盛;齐胜利;潘尧波;张楠;陈诚;陈耀;杨杰;袁根如;李士涛
分类号 H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/00(2010.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 余明伟
主权项 一种发光二极管的制造方法,其特征在于,所述制造方法至少包括以下步骤:1)提供一半导体衬底,于所述半导体衬底表面依次沉积至少包括N型层、量子阱层、P型层的发光外延结构;2)刻蚀所述P型层及量子阱层以形成N电极制备区域;3)于所述P型层表面形成透明导电层,并采用光刻工艺刻蚀所述透明导电层、P型层及量子阱层,以形成多个贯穿至所述N型层的呈周期排列且具有预设孔径的开孔;4)于所述透明导电层表面制作P电极,于所述N电极制备区域制备N电极。
地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区芳春路400号