| 发明名称 | 一种制备像素化的闪烁材料膜的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种制备像素化的闪烁材料膜的方法，所述方法包括以下步骤：将掩模版叠加到基板上，所述掩模版中包括多个贯穿该掩模版的开口；通过所述掩模版的开口在所述基板上沉积闪烁材料，从而在所述基板上形成多个分隔开的所述闪烁材料的像素单元。本发明还提供了由该方法制得的包括像素化的闪烁材料膜的组件。 | ||
| 申请公布号 | CN103849832A | 申请公布日期 | 2014.06.11 |
| 申请号 | CN201210510007.9 | 申请日期 | 2012.12.03 |
| 申请人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明人 | 刘光辉;刘茜;周真真;魏钦华;杨华 |
| 分类号 | C23C14/04(2006.01)I;C23C16/04(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 江磊 |
| 主权项 | 一种制备像素化的闪烁材料膜的方法，所述方法包括以下步骤：将掩模版叠加到基板上，所述掩模版中包括多个贯穿该掩模版的开口；通过所述掩模版的开口在所述基板上沉积闪烁材料，从而在所述基板上形成多个分隔开的所述闪烁材料的像素单元。 | ||
| 地址 | 200050 上海市长宁区定西路1295号 | ||