| 发明名称 | 反射型掩模坯、反射型掩模及它们的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种反射型掩模坯、反射型掩模及它们的制造方法，抑制遮光框处的反射率，改善品质。反射型掩模包括：基板；在上述基板上形成的多层反射层；和在上述多层反射层之上形成的吸收层，上述反射型掩模具有上述吸收层的膜厚比其他区域的膜厚大的框形状的遮光框区域。另外，多层反射层在遮光框区域通过熔解而扩散混合。 | ||
| 申请公布号 | CN103858210A | 申请公布日期 | 2014.06.11 |
| 申请号 | CN201280047186.5 | 申请日期 | 2012.09.25 |
| 申请人 | 凸版印刷株式会社 | 发明人 | 田边将人;福上典仁;坂田阳;古沟透;原口崇 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G03F1/24(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 杨宏军 |
| 主权项 | 一种反射型掩模坯，包括：基板；在所述基板上形成的多层反射层；和在所述多层反射层之上形成的吸收层，所述反射型掩模坯具有所述吸收层的膜厚比其他区域的膜厚大的框形状的遮光框区域。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||