| 摘要 |
1. Основа для косметической композиции, содержащая сшитую полиакриловую кислоту и ее сополимеры с С10-30-алкилакрилатами или С10-30-алкилметакрилатами и нейтрализующий агент, отличающаяся тем, что в качестве нейтрализующего агента используется олигоэфир линейного или разветвленного строения, содержащий не менее двух концевых аминогрупп, или его смесь с низкомолекулярным основанием или оксиалкилированным моноамином.2. Основа по п.1, отличающаяся тем, что в качестве олигоэфира, содержащего концевые аминогруппы, используют аминопроизводные простых олигоэфиров.3. Основа по п.2, отличающаяся тем, что в качестве аминопроизводных простых олигоэфиров с концевыми аминогруппами используют аминопроизводные олигоэтиленгликоля, олигопропиленгликоля, сополимера этиленоксида и пропиленоксида или их смеси.4. Основа по п.3, отличающаяся тем, что в качестве аминопроизводного олигоэтиленгликоля используют соединение общей формулы:NH(CH)O(CHCHO)(CH)NHили соединение общей формулы:{NH[CHCHO]CH]}{NH[CHCHO](CH)]}--{NH[CHCHO]CH]}CR, где R=-H, -(CH)CH.5. Основа по п.3, отличающаяся тем, что в качестве аминопроизводного олигопропиленгликоля используют соединение общей формулы:{NH[CH(CH)CHO]CH]}{NH[CH(CH)CHO](CH)]}--{NH[CH(CH)CHO]CH]}CR, где R=-H,-CH, n=0 или 1.или соединение общей формулы:NH[CH(CH)CHO]CHCH(CH)NH.6. Основа по п.3, отличающаяся тем, что в качестве аминопроизводного сополимера этиленоксида и пропиленоксида используют соединение общей формулы:NHCH(CH)CH[OCH(CH)CH][OCHCH][OCHCH(CH)]NH.7. Основа по пп.1-6, отличающаяся тем, используемые олигоэфиры, содержащие концевые группы, имеют значения молекулярной массы M400-5000.8. Основа по пп.1-6, отличающаяся тем, что содержание сшитой полиакриловой кислоты и ее сополимеров с С10-30-алкилак |
