| 发明名称 | 用于旋转基板的非径向温度控制系统 | ||
| 摘要 | 本发明的实施例提供了降低热处理期间不均匀性的设备与方法。一个实施例提供了一种处理基板的设备，包括腔室主体，其限定处理容积；基板支撑件，其置于该处理容积中，其中该基板支撑件被配置以旋转该基板；传感器组件，其被配置以测量该基板在多个位置处的温度；以及一个或更多个脉冲加热组件，其被配置以对该处理容积提供脉冲式能量。 | ||
| 申请公布号 | CN102017101B | 申请公布日期 | 2014.06.04 |
| 申请号 | CN200980115810.9 | 申请日期 | 2009.05.01 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 沃尔夫冈·R·阿得厚德;亚伦·亨特;约瑟夫·R·拉尼什 |
| 分类号 | H01L21/324(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/324(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 徐金国 |
| 主权项 | 一种用于处理基板的设备，其包括：腔室主体，其限定处理容积；基板支撑件，其置于该处理容积中，其中该基板支撑件被配置以旋转该基板；传感器组件，其被配置以测量该基板在多个位置的温度；主加热源，其被配置以对该处理容积提供能量，其中，该主加热源包括多个加热组件，这些加热组件被分组成彼此同心的多个区域群组；以及多个脉冲加热组件，其被分组成多个脉冲群组，其中，该多个脉冲群组中每一者具有相同半径涵盖范围的对应区域群组，该多个脉冲加热组件被配置以对该处理容积提供脉冲式能量。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||