发明名称 MOM电容
摘要 本发明公开了一种MOM电容,由多层金属线圈组成,每一层金属线圈都是由两条金属子线圈嵌套形成,每一层的两条金属子线圈之间形成横向电容结构,即由两条金属子线圈组成电容的两个极板,上下相邻两侧的两条金属子线圈通过通孔连接在一起。本发明MOM电容两个极板都分别由金属线圈组成,由于金属线圈具有较大的寄生电感,从而能够提高MOM电容的等效电容、增加电容密度并减少电路面积。
申请公布号 CN103839916A 申请公布日期 2014.06.04
申请号 CN201210488405.5 申请日期 2012.11.26
申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司 发明人 黄景丰
分类号 H01L23/522(2006.01)I 主分类号 H01L23/522(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 丁纪铁
主权项 一种MOM电容,其特征在于:包括多层金属线圈,每一层金属线圈都是由两条金属子线圈嵌套形成; 对于每一层所述金属线圈的两条所述金属子线圈有如下结构: 两条所述金属子线圈都分别由一条金属线环绕而成、环绕方向相同、环绕的圈数也相同,第一条金属子线圈和第二条金属子线圈之间由氧化层隔离、所述第一条金属子线圈和所述第二条金属子线圈的各圈金属线段的侧面会交叠并在对应的金属层形成横向的电容; 最顶层的所述金属线圈包括两个电极端口,第一电极端口位于最顶层的所述金属线圈的所述第一条金属子线圈的外侧端口,第二电极端口位于最顶层的所述金属线圈的所述第二条金属子线圈的外侧端口; 两个相邻层的所述金属线圈之间具有如下结构关系: 上层所述金属线圈和相邻的下层所述金属线圈的金属线的环绕方向相反,两个相邻层的所述金属线圈之间用氧化层隔离; 上层所述金属线圈的第一条金属子线圈的内侧端口和相邻的下层所述金属线圈的第二条金属子线圈的内侧端口通过通孔相连,上层所述金属线圈的第二条金属子线圈的内侧端口和相邻的下层所述金属线圈的第一条金属子线圈的内侧端口通过通孔相连;上层所述金属线圈和相邻的下层所述金属线圈之间的金属线会部分交叠,该交叠部分形成纵向电容。 
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号