一种基于双层胶纳米压印的光栅结构彩色滤光膜加工方法

摘要

本发明公开一种基于双层胶纳米压印的光栅结构彩色滤光膜加工方法，其主要工艺流程包括：选取基片，制作双层胶膜，紫外纳米压印获得光栅结构图形，利用等离子刻蚀去除底胶，再在胶图形上镀膜，最后去胶，获得设计光栅结构。本发明的优点是利用双层胶纳米压印技术结合剥离工艺，可快速获得金属或其它材料的光栅结构，该光栅结构具有不同周期和线宽的特点，图形传递利用剥离工艺，无需刻蚀金属或其它材料，避免了刻蚀工艺导致的图形保真度不好。

主权项

一种基于双层胶纳米压印的光栅结构彩色滤光膜加工方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1，选取基片，对基片表面进行清洗并烘干；步骤2，在基片上制备双层胶膜，所述双层胶膜是由底层正性光刻胶和顶层纳米压印胶组成，正性光刻胶为薄胶，涂覆厚度为滤光膜光栅深度的2～3倍；纳米压印胶为紫外固化胶，涂覆厚度为45～105nm；步骤3，将双层胶膜基片置于纳米压印设备里，利用压印模板压印，并进行紫外固化，最后脱模，获得压印图形；所述压印模板是根据红、绿、蓝三色滤光膜的结构特点进行的，压印模板的光栅结构与三色滤光膜光栅结构的周期和深度相同，线宽互补，即压印模板结构是三色滤光膜光栅结构的负模板，对于红光光栅周期为420～450nm，线宽为315～338nm，则相对应的模板光栅结构周期为420～450nm，线宽为82～135nm；绿光光栅周期为340～360nm，则相对应的模板光栅结构周期为340～360nm，线宽为70～105nm；蓝光光栅周期为260～280nm，则相对应的模板光栅结构周期为260～280nm，线宽为50～85nm；利用模板通过一次压印即获得设计所需滤光膜的图形，该图形是由三色光栅子单元组成，各子单元由不同周期和线宽的光栅组成；步骤4，利用等离子刻蚀去除底胶，底胶包括压印后留下的厚度为5～10nm的压印胶和步骤2涂覆的正性光刻胶；步骤5，在上述步骤4完成的基片上镀膜层材料，所述膜层材料的厚度为40～100nm；步骤6，利用剥离工艺去除光刻胶，获得具有光栅结构的滤光膜，所述剥离工艺是将上述完成的基片置于有机溶剂里浸泡，正性光刻胶溶解，压印胶脱离基底，留下具有光栅结构的膜层材料，该结构是理想光栅结构的滤光膜。