发明名称 太阳光聚光用菲涅耳透镜片及其设计方法
摘要 本发明涉及在基材中包含紫外线吸收剂的树脂制太阳光聚光用光学片,本发明的太阳光聚光用光学片的设计方法以及由此得到的太阳光聚光用光学片的特征在于,在利用金属卤化物灯式耐候性试验(装置规格:JTM G 01:2000,日本试验机工业会)进行的加速劣化试验中,经过T<sub>1</sub>小时的照射时间试验后的400nm~1850nm波长区域的平均透射率下降满足下述(1)式,即(1)式:τuv(0)+τuv(T<sub>1</sub>)>τ<sub>0</sub>(0)+τ<sub>0</sub>(T<sub>1</sub>),并且决定基材中含有的紫外线吸收剂量以使在上述波长区域各波长的透射率从初始值下降10%以内。T<sub>1</sub>是与实际使用场对应的必须要的促进试验时间。本发明的光学片在大量紫外线照射的环境、长时间使用的情况下,具有透射率不降低,能够高效率聚光的性能。
申请公布号 CN102460230B 申请公布日期 2014.06.04
申请号 CN201080033793.7 申请日期 2010.05.28
申请人 可乐丽股份有限公司 发明人 丰原诚;小野阳二;松崎一朗
分类号 G02B3/08(2006.01)I;G02B19/00(2006.01)I;H02S40/22(2014.01)I 主分类号 G02B3/08(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 臧霁晨;卢江
主权项 一种在基材中包含紫外线吸收剂的树脂制太阳光聚光用光学片的设计方法,其特征在于,在利用金属卤化物灯式耐候性试验进行的加速劣化试验中,其中,所述金属卤化物灯式耐候性试验的装置规格:JTM G01:2000、日本试验机工业会,经过T<sub>1</sub>小时的照射时间试验后的400nm~1850nm波长区域的平均透射率的下降满足式(1):τuv(0)+τuv(T<sub>1</sub>)>τ<sub>0</sub>(0)+τ<sub>0</sub>(T<sub>1</sub>)……(1),并且决定基材中含有的紫外线吸收剂的量,以使在所述波长区域中各波长的透射率从初始值下降10%以下,其中,T<sub>1</sub>=150×2.5×U<sub>1</sub>/U<sub>0</sub>×{0.44×ln(W<sub>1</sub>/W<sub>0</sub>)+0.88}×{(0.5×cos(α<sub>1</sub>-23.4))+cosα<sub>1</sub>}/{(0.5×cos(α<sub>0</sub>-23.4))+cosα<sub>0</sub>}…………(2)U<sub>1</sub>:使用太阳光聚光用光学片的环境下的平均日照时间W<sub>1</sub>:使用太阳光聚光用光学片的环境下的平均水蒸汽量α<sub>1</sub>:使用太阳光聚光用光学片的场所的纬度U<sub>0</sub>:实际实施室外曝露试验的场所的日照时间W<sub>0</sub>:实际实施室外曝露试验的场所的平均水蒸汽量α<sub>0</sub>:实际实施室外曝露试验的场所的纬度τuv(0):本发明的太阳光聚光用光学片的耐候性试验前的400nm~1850nm波长区域的平均透射率τuv(T<sub>1</sub>):本发明的太阳光聚光用光学片经耐候性试验T<sub>1</sub>小时后的400nm~1850nm波长区域的平均透射率τ<sub>0</sub>(0):除不含紫外线吸收剂外与本发明相同的太阳光聚光用光学片的耐候性试验前的400nm~1850nm波长区域的平均透射率τ<sub>0</sub>(T<sub>1</sub>):除不含紫外线吸收剂外与本发明相同的太阳光聚光用光学片的耐候性试验T<sub>1</sub>小时后的400nm~1850nm波长区域的平均透射率。
地址 日本冈山县