激光处理装备中用于减少斑纹的设备和方法

摘要

这里所描述的实施方式提供用于以均匀的激光能量处理半导体基板的设备和方法。激光脉冲或光束被导引至空间均化器，该空间均化器可为多个透镜，这些透镜沿着平面布置，该平面垂直于激光能量的光学路径，一个实例是微透镜阵列。该空间上均匀的能量由空间均化器产生，该空间上均匀的能量接着被导引至折射介质，该折射介质具有多个厚度。所述多个厚度的每一个厚度与其他厚度相差至少激光能量的相干长度。

主权项

一种用于提高相干光的能量均匀性的设备，所述设备包含：多个透镜，将所述多个透镜定位以产生合成投射场；以及折射介质，所述折射介质具有一个或更多个第一表面和多个第二表面，其中每一个第二表面位于与所述一个或更多个第一表面相距多个距离的位置，并且所述折射介质被定位成在所述一个或更多个第一表面接收所述合成投射场，并且从所述多个第二表面传输能量场，或所述折射介质被定位成在所述多个第二表面接收所述合成投射场，并且从所述一个或更多个第一表面传输所述能量场。