| 发明名称 | 空穴注入传输层用材料、空穴注入传输层形成用油墨、器件以及它们的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供能够利用溶液涂布法形成空穴注入传输层且能够提高器件的寿命的空穴注入传输层用材料及其制造方法、能够利用溶液涂布法形成空穴注入传输层且能够提高器件的寿命的空穴注入传输层形成用油墨及其制造方法、以及高寿命的器件及其制造方法。本发明的空穴注入传输层用材料为钼络合物与下述化学式(1)所示的化合物的反应产物。<img file="DDA0000484850960000011.GIF" wi="1059" he="327" />(化学式(1)中，R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、X<sup>1</sup>和X<sup>2</sup>如说明书的记载所示)。 | ||
| 申请公布号 | CN103843165A | 申请公布日期 | 2014.06.04 |
| 申请号 | CN201280048222.X | 申请日期 | 2012.09.25 |
| 申请人 | 大日本印刷株式会社 | 发明人 | 乙木荣志;下河原匡哉;冈田政人;武田利彦 |
| 分类号 | H01L51/54(2006.01)I;H01L51/30(2006.01)I;C09D11/00(2014.01)I;C09K11/06(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I;H01L51/40(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/54(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王彦慧 |
| 主权项 | 1.一种空穴注入传输层用材料，其为钼络合物与下述化学式(1)所示的化合物的反应产物，化学式(1)<img file="FDA0000484850930000011.GIF" wi="864" he="352" />化学式(1)中，R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>分别独立地表示可以具有取代基且可以含有杂原子的烃基；X<sup>1</sup>和X<sup>2</sup>分别独立地表示氧原子、硫原子或直接键合键；其中，R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>的碳数的总和为5以上。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||