| 发明名称 | 电化学抛光溶液及电化学抛光石墨栅极的方法、石墨栅极 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种电化学抛光溶液及电化学抛光石墨栅极的方法、石墨栅极，用以提供一种有效去除栅极表面污渍，提高栅极质量的电化学抛光溶液和抛光方法。所述电化学抛光溶液，包括：900～1000重量份的水；195～205重量份的碱金属的氢氧化物；49～51重量份的弱酸盐；294～306重量份的添加剂。 | ||
| 申请公布号 | CN103834986A | 申请公布日期 | 2014.06.04 |
| 申请号 | CN201410073381.6 | 申请日期 | 2014.02.28 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方真空技术有限公司 | 发明人 | 廖美玲 |
| 分类号 | C25F3/16(2006.01)I;H01J9/02(2006.01)I | 主分类号 | C25F3/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种电化学抛光溶液，其特征在于，包括：900～1000重量份的水；195～205重量份的碱金属的氢氧化物；49～51重量份的弱酸盐；294～306重量份的添加剂。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||