发明名称 | 辐射源 | ||
摘要 | 一种辐射源,适于提供辐射束至光刻设备的照射器。辐射源包括:喷嘴,配置成沿轨迹朝向等离子体形成位置引导燃料液滴的束流。辐射源配置成接收第一辐射量辐射,使得在使用中第一辐射量辐射入射到等离子体形成位置处的燃料液滴上,并使得在使用中第一辐射量辐射将能量传递至燃料液滴以生成发射第二辐射量辐射的用于产生辐射的等离子体。辐射源还包括:第一传感器布置,配置成测量表示第一辐射量辐射的聚焦点位置的第一辐射量辐射的性质;和第二传感器布置,配置成测量表示燃料液滴位置的燃料液滴的性质。 | ||
申请公布号 | CN103843463A | 申请公布日期 | 2014.06.04 |
申请号 | CN201280049179.9 | 申请日期 | 2012.09.06 |
申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | B·詹森;J·胡格坎普 |
分类号 | H05G2/00(2006.01)I | 主分类号 | H05G2/00(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 张启程 |
主权项 | 一种辐射源,适于提供辐射束至光刻设备的照射器,所述辐射源包括:喷嘴,配置成沿轨迹朝向等离子体形成位置引导燃料液滴的束流;和所述辐射源配置成接收第一辐射量辐射,使得在使用中第一辐射量辐射入射到等离子体形成位置处的燃料液滴上,并使得在使用中第一辐射量辐射将能量传递至燃料液滴以生成发射第二辐射量辐射的用于产生辐射的等离子体;所述辐射源还包括第一传感器布置和第二传感器布置,所述第一传感器布置配置成测量表示第一辐射量辐射的聚焦点位置的第一辐射量辐射的性质,所述第二传感器布置配置成测量表示燃料液滴位置的燃料液滴的性质。 | ||
地址 | 荷兰维德霍温 |