发明名称 水处理装置以及水处理方法
摘要 本发明提供一种水处理装置,能够通过分解被处理水中含有的有机物来减轻下游的过滤装置的载荷,而且能够避免配管等的腐蚀。水处理装置12具有:将含有有机物的被处理水15a加压至规定的压力的大口径流路22、小口径流路23及加压泵24;和向加压后的被处理水15a照射激光27而将其加热至规定温度的激光光源25及聚光透镜26,利用聚光透镜26将从激光光源25照射的激光27聚光在加压后的被处理水15a流动的小口径流路23的、与该流路内的流路壁分离的区域29,对该区域29内的被处理水15a加热而生成超临界水或者亚临界水来分解被处理水15a中的有机物。
申请公布号 CN103153878B 申请公布日期 2014.06.04
申请号 CN201180049164.8 申请日期 2011.10.07
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 守屋刚;片冈宪一;先崎滋;岛贯洋一;狩野和彦
分类号 C02F1/58(2006.01)I;B01J3/00(2006.01)I;B01J3/02(2006.01)I;C02F1/74(2006.01)I 主分类号 C02F1/58(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 李洋;舒艳君
主权项 一种水处理装置,其特征在于,具有:加压装置,其将含有有机物的被处理水加压至规定的压力;和加热装置,其通过将被所述加压装置加压后的所述被处理水加热至规定温度来生成超临界水或者亚临界水,利用该超临界水或者亚临界水分解所述被处理水中含有的所述有机物,所述加热装置具备:激光照射装置,其朝向被所述加压装置加压后的所述被处理水照射激光;和聚光透镜,其将从上述激光照射装置照射的激光聚光在所述加压后的被处理水流动的流路中的、与该流路内的流路壁分离的区域,所述规定的压力是1.5MPa~100MPa,所述规定的温度是200℃~500℃。
地址 日本东京都