发明名称 |
离子源电弧狭缝的校正工具及方法 |
摘要 |
本发明涉及一种离子源电弧狭缝的校正工具及方法,通过将测试工具的测试端在盖板的狭缝上划过去:如果测试端能够插入到狭缝上的任意一点中的,则狭缝的宽度超过临界值,盖板不能继续使用;如果测试端不能够插入到狭缝中的,盖板能够继续使用。本发明能够方便对盖板狭缝宽度尺寸进行检测,从而清楚地定义了盖板允许使用的范围,避免人为手动使用游标卡尺测量产生的误差,造成不必要的损失,因此可以避免产生过多的X射线;降低束流调谐失败率,以提高机台的正常运行时间。 |
申请公布号 |
CN103837059A |
申请公布日期 |
2014.06.04 |
申请号 |
CN201210470509.3 |
申请日期 |
2012.11.20 |
申请人 |
上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
毕金亮 |
分类号 |
G01B5/02(2006.01)I |
主分类号 |
G01B5/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 |
代理人 |
张静洁;徐雯琼 |
主权项 |
一种离子源电弧狭缝的校正工具,用于对离子源起弧室(10)的盖板(30)上狭缝(31)的宽度尺寸进行校正,其特征在于,所述校正工具(40)设有至少一个测试端(41),该测试端(41)的直径为设定的校正数值;所述测试端(41)的校正数值,与允许继续使用的盖板(30)上所述狭缝(31)宽度的临界值一致。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 |