| 摘要 |
L'invention concerne un implanteur ionique qui comporte une enceinte ENV dans laquelle est agencée un porte-substrat PPS connecté à une alimentation substrat ALT par l'intermédiaire d'un passage électrique haute tension PET, cette enceinte ENV étant pourvue de moyens de pompage PP, P), cette enceinte ENV comportant encore un corps de source CS1 cylindrique dépourvu de tout obstacle et disposé face au porte-substrat. Cet implanteur est remarquable en ce que l'enceinte ENV comporte au moins un corps de source CS2 cylindrique additionnel également dépourvu de tout obstacle et disposé lui aussi face au porte-substrat PPS. |
