发明名称 高区域堆叠层金属结构及相关方法
摘要 本发明提供高表面区域堆叠层金属结构、装置、设备、系统及相关方法的实施方案。可从包含第一金属及第二金属的电镀槽来制造位于衬底上的多个堆叠层。经调制的电镀电流可沉积交替的第一金属层及合金层,所述合金层包含所述第一金属及所述第二金属。可通过选择性地蚀刻第一金属层的一些部分以界定堆叠层结构来形成合金层之间的间隙。堆叠层结构可在用以形成电容器、电感器、催化反应器、热转移管、非线性弹簧、过滤器、蓄电池及重金属净化器的应用中有用。
申请公布号 CN103827019A 申请公布日期 2014.05.28
申请号 CN201280047105.1 申请日期 2012.08.27
申请人 高通MEMS科技公司 发明人 菲利普·贾森·斯蒂法诺;安娜·兰格洛瓦·隆德甘;叶夫根尼·彼得罗维奇·古塞夫;拉温德拉·瓦曼·谢诺伊
分类号 B81C1/00(2006.01)I;C25D5/10(2006.01)I;C25D5/18(2006.01)I;C23C28/02(2006.01)I 主分类号 B81C1/00(2006.01)I
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人 孙宝成
主权项 一种在衬底上从电镀槽形成多个堆叠层的方法,其包括:电镀以沉积第一材料的至少一个层及第二材料的至少一个层;以及选择性地蚀刻所述第一材料的部分。
地址 美国加利福尼亚州