发明名称 |
双压力MEMS芯片圆片级封装方法及其双压力MEMS芯片 |
摘要 |
本发明公开了双压力MEMS芯片圆片级封装方法及其双压力MEMS芯片,首先在盖板圆片衬底上蚀刻两个上腔体,生长盖板绝缘层,形成盖板圆片;将盖板圆片与MEMS圆片键合,蚀刻MEMS结构层,形成待键合MEMS圆片;在设定压力的键合室中将底板圆片与待键合MEMS圆片键合;蚀刻盖板圆片,露出通气口;在设定压力的密封室中将通气口密封,形成双压力密封腔;最后将压焊块上的MEMS结构层切割掉,露出压焊块,再将封装好的MEMS圆片切割成MEMS芯片。本方法利用键合室与密封室中压力不同,形成不同压力的密封腔,不需要增加图形化工序,也不需要放入吸气剂,就可满足不同MEMS结构对不同压力的要求,工艺简单,成本底,本方法制得的MEMS芯片可以满足不同压力的需要,厚度薄,市场竞争力强。 |
申请公布号 |
CN103818868A |
申请公布日期 |
2014.05.28 |
申请号 |
CN201410064374.X |
申请日期 |
2014.02.22 |
申请人 |
安徽北方芯动联科微系统技术有限公司 |
发明人 |
华亚平 |
分类号 |
B81B7/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I |
主分类号 |
B81B7/00(2006.01)I |
代理机构 |
蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102 |
代理人 |
王琪 |
主权项 |
双压力MEMS芯片圆片级封装方法,步骤为:(1)盖板圆片形成:在盖板圆片衬底上表面蚀刻出第一上腔体和第二上腔体,并生长盖板绝缘层;(2)待键合MEMS圆片形成:将步骤(1)形成的盖板圆片与MEMS圆片键合,在盖板圆片下表面加工盖板凹腔,磨削MEMS圆片,形成MEMS结构层,在MEMS结构层上分别蚀刻出第一密封区、第一MEMS结构、第二密封区、第二MEMS结构和第三密封区,在第三密封区上蚀刻出通气槽,形成待键合MEMS圆片;(3)底板圆片形成:在底板圆片衬底上表面蚀刻出第一下腔体、第二下腔体和底板凹腔,生长底板绝缘层,在位于底板凹腔的底板绝缘层上形成压焊块,在除第一下腔体、第二下腔体和底板凹腔的底板绝缘层上形成焊料层,将压焊块与焊料层电连接;(4)键合MEMS圆片形成:将底板圆片的焊料层分别对准待键合MEMS圆片的第一密封区、第二密封区和第三密封区,在设定压力的键合室中进行键合,形成键合MEMS圆片;(5)通气口形成:蚀刻键合MEMS圆片的盖板,形成盖板表面和盖板斜侧面,露出盖板绝缘层,然后清洗,再蚀刻除去盖板绝缘层,露出通气槽外端,形成通气口;(6)双压力MEMS圆片形成:在设定压力的密封室中,在键合MEMS圆片的盖板表面覆盖密封层,密封住通气口,切割压焊块上方的MEMS结构层,露出压焊块,形成双压力MEMS圆片;(7)双压力MEMS芯片形成:切割双压力MEMS圆片,形成双压力MEMS芯片。 |
地址 |
233042 安徽省蚌埠市财院路10号 |