发明名称 III族氮化物半导体激光器元件、制作III族氮化物半导体激光器元件的方法及外延基板
摘要 本发明提供一种III族氮化物半导体激光器元件,其在六方晶系III族氮化物的c轴向m轴方向倾斜的支撑基体的半极性面上,具有能实现低阈值电流的激光谐振器且具有能提高振荡合格率的构造。成为激光谐振器的第1及第2切断面(27、29)与m-n面交叉。III族氮化物半导体激光器元件(11)中,激光波导路在m-n面与半极性面(17a)的交叉线的方向延伸,因此可利用能实现低阈值电流的能带跃迁的发光。第1及第2切断面(27、29)自第1面(13a)的边缘(13c)延伸至第2面(13b)的边缘(13d)。切断面(27、29)并非通过干式蚀刻形成,且与c面、m面或者a面等目前为止的解理面不同。波导路向量(LGV)与投影分量(VCP)所成的偏移角(AV)可在-0.5度以上+0.5度以下的范围。
申请公布号 CN102668281B 申请公布日期 2014.05.28
申请号 CN201080059063.4 申请日期 2010.11.11
申请人 住友电气工业株式会社 发明人 善积祐介;盐谷阳平;京野孝史;住友隆道;嵯峨宣弘;足立真宽;住吉和英;德山慎司;高木慎平;池上隆俊;上野昌纪;片山浩二
分类号 H01S5/343(2006.01)I 主分类号 H01S5/343(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 谢丽娜;关兆辉
主权项 一种III族氮化物半导体激光器元件,其包括:激光器构造体,其含有由六方晶系III族氮化物半导体构成且具有半极性主面的支撑基体、及设于上述支撑基体的上述半极性主面上的半导体区域;以及电极,其设于上述激光器构造体的上述半导体区域上,上述半导体区域包括由第1导电型氮化镓系半导体构成的第1包覆层、由第2导电型氮化镓系半导体构成的第2包覆层、及设于上述第1包覆层与上述第2包覆层之间的活性层,上述第1包覆层、上述第2包覆层及上述活性层沿上述半极性主面的法线轴排列,上述活性层包含氮化镓系半导体层,上述支撑基体的上述六方晶系III族氮化物半导体的c轴,相对于上述法线轴向上述六方晶系III族氮化物半导体的m轴方向以角度ALPHA倾斜,上述激光器构造体包括与m‑n面交叉的第1及第2切断面,该m‑n面由上述六方晶系III族氮化物半导体的m轴及上述法线轴所界定,该III族氮化物半导体激光器元件的激光谐振器包含上述第1及第2切断面,上述激光器构造体包含第1及第2面,上述第1面为上述第2面的相反侧的面,上述第1及第2切断面分别自上述第1面的边缘延伸至上述第2面的边缘,上述角度ALPHA为45度以上80度以下或100度以上135度以下的范围,上述激光器构造体包含在上述支撑基体的上述半极性主面上延伸的激光波导路,上述激光波导路在波导路向量的方向延伸,该波导路向量朝向自上述第1及第2切断面的一方指向另一方的方向,表示上述六方晶系III族氮化物半导体的c轴方向的c轴向量,包括与上述半极性主面平行的投影分量、及与上述法线轴平行的垂直分量,上述波导路向量与上述投影分量所成偏移角在‑0.5度以上+0.5度以下的范围。
地址 日本大阪府大阪市