| 发明名称 | 反应腔装置及具有其的基片处理设备 | ||
| 摘要 | 本发明提出一种反应腔装置，包括：腔室本体，腔室本体内限定有反应腔室；多个托盘，多个托盘设置在反应腔室之中且可绕中心轴转动；和整流片，所述多个托盘之间间隔设置所述整流片，且整流片位置固定不动。本发明还提出一种基片处理设备。通过本发明实施例提出的反应腔装置，可有效地增强托盘的温度补偿效果，提高托盘的温度均匀性。通过本发明实施例提出的基片处理设备，可使基片表面温度更加均匀，进而提高基片的成膜工艺指标。 | ||
| 申请公布号 | CN102796992B | 申请公布日期 | 2014.05.28 |
| 申请号 | CN201110141309.9 | 申请日期 | 2011.05.27 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 周卫国 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人 | 张大威 |
| 主权项 | 一种反应腔装置，其特征在于，包括：腔室本体，所述腔室本体内限定有反应腔室；多个托盘，所述多个托盘设置在所述反应腔室之中且可绕中心轴转动；和整流片，所述多个托盘之间间隔设置所述整流片，且所述整流片位置固定不动，所述整流片与所述托盘在上下方向上相对。 | ||
| 地址 | 100015 北京市海淀区酒仙桥东路1号 | ||