一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备

摘要

本发明公开了一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备，包括第一清洗装置，其特征在于：所述第一清洗装置包括清洗池、至少一个擦拭辊、至少一个支撑辊和若干导向棍，在清洗池内盛放有清洗液，在清洗液上方和内部设置有若干牵引薄膜的导向棍，在清洗池内设置有伸出清洗液液面的支撑辊，在支撑辊的上方设置有擦拭辊，所述薄膜通过支撑辊与擦拭辊之间的间隙。本发明解决了现有技术中无法较好清除纤维素膜表面沉积的粉尘，影响后续薄膜使用的问题，提供了一种结构简单，使用方便，能够去除粉尘，提高薄膜表面质量的去除高分子薄膜表面粉尘的设备。

主权项

一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备，包括第一清洗装置，其特征在于：所述第一清洗装置包括清洗池、至少一个擦拭辊、至少一个支撑辊和若干导向棍，在清洗池内盛放有清洗液，在清洗液上方和内部设置有若干牵引薄膜的导向棍，在清洗池内设置有伸出清洗液液面的支撑辊，在支撑辊的上方设置有擦拭辊，所述薄膜通过支撑辊与擦拭辊之间的间隙。