发明名称 一种自动曝光调整方法及系统
摘要 本发明提供一种自动曝光调整方法及系统,所述方法至少包括:获取当前图像,同时统计所述图像的亮区域和暗区域所包括的像素点和所述像素点的亮度值;根据所述统计结果计算亮区域像素点比例和暗区域像素点比例;若亮区域像素点比例和暗区域像素点比例中的至少其中一者大于或等于预设比例,则根据当前统计的像素点的亮度值和预设亮度阈值调整成像设备的曝光参数;若亮区域像素点比例和暗区域像素点比例均小于预设比例,则继续进行统计,直至像素点的亮度值达到所述预设亮度阈值。本发明的曝光状态判断过程运算复杂度和运算量均较低,从而能够快速地判断图像的曝光状态,同时提高了图像曝光控制的实时性。
申请公布号 CN103826066A 申请公布日期 2014.05.28
申请号 CN201410066666.7 申请日期 2014.02.26
申请人 芯原微电子(上海)有限公司;芯原微电子(北京)有限公司;芯原微电子(成都)有限公司;芯原股份有限公司 发明人 宁珺;杨柁;周志刚;雷永明;周缵
分类号 H04N5/235(2006.01)I;H04N9/77(2006.01)I 主分类号 H04N5/235(2006.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 李仪萍
主权项 一种自动曝光调整方法,其特征在于,所述自动曝光调整方法至少包括:获取当前图像,同时统计所述图像的亮区域和暗区域所包括的像素点和所述像素点的亮度值,其中,所述亮区域和暗区域具有预设的亮度阈值范围;根据所述统计结果计算亮区域像素点比例和暗区域像素点比例,所述亮区域像素点比例和暗区域像素点比例分别为当前统计的亮区域和暗区域中的像素点数量占整幅图像像素点总数的比例;若亮区域像素点比例和暗区域像素点比例中的至少其中一者大于或等于预设比例,则根据当前统计的像素点的亮度值和预设亮度阈值调整成像设备的曝光参数;若亮区域像素点比例和暗区域像素点比例均小于预设比例,则继续进行统计,直至像素点的亮度值达到所述预设亮度阈值。
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区松涛路560号张江大厦20A