发明名称 超长框架变形与姿态的多点实时测量系统与方法
摘要 本发明提出一种超长框架变形与姿态的多点实时测量系统与方法,所述系统包括测量底座、上变形测量系统、姿态测量系统和下变形测量系统。测量底座位于被测框架近端附近的某一固定位置处,与被测框架并不接触,且具有足够的刚性和稳定性。上下两个变形测量系统完全相同,分别测量框架上下边缘多个测量点的变形量,姿态测量系统负责测量框架远端的空间位置。本发明既可实现超长框架的高精度实时测量,又可避免实验移动导轨和其他机械部件,可以满足各种形状框架的变形与姿态测量的要求。该方法还可推广应用于其他相关测量领域。
申请公布号 CN103822580A 申请公布日期 2014.05.28
申请号 CN201410049234.5 申请日期 2014.02.12
申请人 上海交通大学 发明人 陶卫;赵辉;雷华明;易力;魏佳斯
分类号 G01B11/00(2006.01)I;G01B11/16(2006.01)I 主分类号 G01B11/00(2006.01)I
代理机构 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人 郭国中
主权项 一种超长框架变形与姿态的多点实时测量系统,其特征在于:所述的测量系统包括测量底座、上变形测量系统、姿态测量系统和下变形测量系统,所述测量底座位于被测框架近端附近的某一固定位置处,与被测框架并不接触,且具有足够的刚性和稳定性;上下两个变形测量系统结构完全相同,分别测量框架上下边缘多个测量点的变形量;姿态测量系统负责测量框架远端的空间位置;所述的上下两个变形测量系统分别包括1个激光器、1个准直镜组、多个探测镜组和多个光电单元,激光器和准直镜组安置于测量底座之上,探测镜组和光电单元分别安置于被测框架的相应测量点位置处;所述的探测镜组接收准直激光束,并将其中一小部分准直激光束反射到光电单元并产生一个定位光斑,用以测量该位置的变形量;其余大部分准直激光束透过探测镜组,然后投射后面的探测镜组,从而实现整个框架的多点变形量实时测量;所述的姿态测量系统包括摄像机、镜头、光源和反射标志组,所述摄像机、镜头和光源安置于测量底座之上,反射标志组安置于被测框架的远端位置处;由光源发出的光束照亮反射标志组,并通过镜头成像到摄像机之中,通过图像处理和数据处理得到框架远端的空间位置信息;上下变形测量系统与姿态测量系统相互独立,两者同时工作实现整个超长框架的测量。
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