利用椭圆截面光斑对磁片进行表面处理的激光划刻设备

摘要

本发明涉及一种用于在带材(26)沿纵向运动时处理取向晶粒磁片的激光划刻设备(22)，包括用于激光束(46a，46b)的激光发生器、具有可变焦距以形成具有根据焦距而变化的椭圆率的椭圆截面激光束(49a，49b)的柱状伸缩式光学装置组(38a，38b)、以及用于根据预定角度扫描激光束的可旋转镜面扫描器(39a，39b)。该划刻设备(22)还包括横向于带材(26)延伸的抛物面镜(54)，以便接收扫描激光束(51a，51b)并将该光束在带材(26)上沿处理路径(53a，53b)聚焦成大大伸长的椭圆光斑(55)，其中，所述伸缩式光学装置组(38a，38b)可调节以改变投射在带材(26)上的激光束(52a，52b)的椭圆截面中的一个轴的长度。

主权项

一种用于在带材(26)沿纵向运动时处理取向晶粒磁片的激光划刻设备(22)，所述激光划刻设备包括激光发生器(43a，43b)、柱状的伸缩式光学装置组(38a，38b)、以及可旋转镜面扫描器(39a，39b)，所述伸缩式光学装置组具有可变焦距以便形成椭圆截面激光束(49a，49b)，所述椭圆截面激光束具有随焦距而变化的椭圆率，所述可旋转镜面扫描器用于根据预定角度扫描激光束，所述激光划刻设备(22)的特征在于，该设备包括横向于带材(26)延伸的抛物面反射镜(54)，用于接收扫描激光束(51a，51b)并将该光束在带材(26)上沿处理路径(53a，53b)聚焦成大大地伸长的椭圆光斑(55)，所述激光划刻设备还包括限制板(58a，58b)和保护装置(42a，42b)，其中，所述限制板(58a，58b)设置在带材(26)的表面和所述抛物面反射镜(54)之间并限定用于被引向处理区域的激光束的窗口(61a，61b)，为了使所述抛物面反射镜(54)免受污染，所述保护装置(42a，42b)邻近所述窗口(61a，61b)在限制板和带材(26)之间产生气态薄层，所述气态薄层作为用于所述窗口(61a，61b)的气态屏障，并且，所述伸缩式光学装置组(38a，38b)可调节，以改变投射在带材(26)上的激光束(52a，52b)的椭圆截面中的一个轴的长度。