发明名称 中低纬地区电离层闪烁短期预报方法
摘要 本发明公开了一种中低纬地区电离层闪烁短期预报方法,包括:对实测到的闪烁指数进行过滤及平均处理后得到电离层闪烁指数平均值,当确认存在电离层不均匀体时,利用信号的强度和相位,分析出电离层不均匀体特征参数,根据所述电离层不均匀体特征参数得出当前时刻电离层不均匀体分布状态;根据当前时刻电离层不均匀体的分布状态,利用分析出的电离层不均匀体特征参数,得出未来时刻电离层不均匀体的分布情况;根据未来时刻电离层不均匀体分布状态及用户信息,得出给定链路上的电离层闪烁强度;本发明为我国中低纬地区各种空间信息系统提供短期闪烁预报服务,根据系统参数和特定的使用环境实时或预先得知用户系统可能遭遇到的电离层闪烁造成的影响。<pb pnum="1" />
申请公布号 CN106134520B 申请公布日期 2014.05.28
申请号 CN200910121260.3 申请日期 2009.05.11
申请人 中国电子科技集团公司第二十二研究所 发明人 甄卫民;冯健;马宝田;陈丽;袁亚平;余侯方;王登亮
分类号 H04B7/00(2006.01)I 主分类号 H04B7/00(2006.01)I
代理机构 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人 梁军
主权项 一种中低纬地区电离层闪烁短期预报方法,其特征在于,所述方法包括:步骤A:对实测到的闪烁指数进行过滤及平均处理,进行处理后得到电离层闪烁指数平均值,根据所述电离层闪烁指数平均值判断电离层不均匀体是否存在,当确认存在时执行步骤B;步骤B:利用实测的信号强度和相位分析出电离层不均匀体特征参数,根据所述电离层不均匀体特征参数得出当前时刻电离层不均匀体的分布状态;步骤C:根据当前时刻电离层不均匀体的分布状态和分析出的电离层不均匀体特征参数,得出未来时刻特定区域电离层不均匀体的分布状态;步骤D:根据未来时刻电离层不均匀体的分布状态及得到的用户信息,得出给定链路上的电离层闪烁强度。
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