发明名称 |
研磨垫、研磨装置及研磨垫的制造方法 |
摘要 |
本发明涉及研磨垫、研磨装置及研磨垫的制造方法。具体地说,本发明涉及一种研磨垫,其包含研磨表面。该研磨表面包含第一研磨区域及第二研磨区域,该第一研磨区域包含至少一个第一发泡树脂孔洞,该第二研磨区域包含至少一个第二发泡树脂孔洞,其中该第一发泡树脂孔洞的平均孔径小于该第二发泡树脂孔洞的平均孔径。根据本发明的研磨垫通过不同孔径的研磨区域,可改善研磨时基材边缘及中心部位移除量不一的缺点,使基材表面平均。 |
申请公布号 |
CN103817590A |
申请公布日期 |
2014.05.28 |
申请号 |
CN201210461797.6 |
申请日期 |
2012.11.16 |
申请人 |
三芳化学工业股份有限公司 |
发明人 |
冯崇智;姚伊蓬;洪永璋;蔡坤成 |
分类号 |
B24B37/24(2012.01)I;B24D13/14(2006.01)I;B24D18/00(2006.01)I |
主分类号 |
B24B37/24(2012.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
宋莉 |
主权项 |
一种研磨垫,其包含具有发泡树脂的研磨表面,其中该研磨表面包含:第一研磨区域,其包含至少一个第一发泡树脂孔洞;及第二研磨区域,其包含至少一个第二发泡树脂孔洞;其中该第一发泡树脂孔洞的平均孔径小于该第二发泡树脂孔洞的平均孔径。 |
地址 |
中国台湾高雄市 |