| 发明名称 | 用于镍-磷存储磁盘的抛光组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供化学-机械抛光组合物，其包含α-氧化铝、热解氧化铝、二氧化硅、将镍磷氧化的氧化剂、草酸、任选的酒石酸、任选的非离子型表面活性剂、任选的杀生物剂、和水。本发明还提供对基材进行化学-机械抛光的方法，该方法包括使基材与抛光垫和该化学-机械抛光组合物接触，使该抛光垫和该抛光组合物相对于该基材移动，和磨除该基材的至少一部分以抛光该基材。 | ||
| 申请公布号 | CN102361950B | 申请公布日期 | 2014.05.28 |
| 申请号 | CN201080012745.X | 申请日期 | 2010.01.28 |
| 申请人 | 嘉柏微电子材料股份公司 | 发明人 | S.帕拉尼萨米奇纳萨姆比;H.斯里瓦达恩 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 化学‑机械抛光组合物，其包含：(a)α‑氧化铝，(b)热解氧化铝，(c)二氧化硅，(d)氧化镍‑磷的氧化剂，(e)0.1重量%至2重量%的草酸，(f)0.1重量%至0.75重量%的酒石酸，(g)非离子型表面活性剂，(h)任选的杀生物剂，和(i)水，其中所述抛光组合物具有2至4的pH。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||