| 发明名称 | 一种微波等离子体化学气相沉积装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开一种微波等离子体化学气相沉积装置，包括用于导入微波的波导装置，所述波导装置与设置在其下方的反应室连接，所述反应室的在圆周方向上均匀设置有多个反应气体入口；在所述波导装置与反应室的连接处水平设置有隔离窗，所述隔离窗用于将波导装置与反应室隔离开，并使所述反应室保持预设定的真空度；在所述反应室内部同轴设置用于支撑衬底托的样品台，在所述衬底托的周围开设有供反应气体流出反应室的气体通道。本实用新型解决现有技术中，掺杂元素不能有效掺入到衬底表面形成的薄膜中，致使掺杂气体的使用效率低，成膜效果不理想的技术问题。本实用新型主要应用与等离子体加工领域。 | ||
| 申请公布号 | CN203602711U | 申请公布日期 | 2014.05.21 |
| 申请号 | CN201320737394.X | 申请日期 | 2013.11.19 |
| 申请人 | 王宏兴 | 发明人 | 王宏兴 |
| 分类号 | C23C16/517(2006.01)I;C23C16/511(2006.01)I;C23C16/513(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/517(2006.01)I |
| 代理机构 | 陕西增瑞律师事务所 61219 | 代理人 | 张瑞琪 |
| 主权项 | 一种微波等离子体化学气相沉积装置，其特征在于，包括用于导入微波的波导装置（1），所述波导装置（1）与设置在其下方的反应室（2）连接，在所述反应室（2）顶部的圆周方向上均匀设置有多个反应气体入口（9）；在所述波导装置（1）与反应室（2）的连接处水平设置有隔离窗（7），所述隔离窗（7）用于将波导装置（1）与反应室（2）隔离开，并使所述反应室（2）保持预设定的真空度；在所述反应室（2）内部同轴设置用于支撑衬底托（3）的样品台（4），在所述衬底托（3）的周围开设有供反应气体流出反应室（2）的气体通道。 | ||
| 地址 | 710049 陕西省西安市咸宁西路28号 | ||