用于掩膜地蚀刻出一种刺穿元件的方法

摘要

本申请涉及一种用于掩膜蚀刻出刺穿元件（14）的方法，所述刺穿元件具有：纵长延伸的杆部（16）；在远端伸出的尖端（18）；近端的保持件（20）；以及沿着所述杆部（16）一直伸展到所述尖端（18）的区域中的、在侧面敞开的、用于体液的收集槽（22）。为此，将双面的蚀刻掩膜（10）施加到基体（12）的两个侧面上，并且在蚀刻剂的作用下作为成形蚀刻件地形成所述刺穿元件（14），其中给所述蚀刻掩膜（10）的槽侧面（28）配备了用于单面地蚀出所述收集槽（22）的槽蚀刻缝隙（38）。在此建议，所述槽蚀刻缝隙（38）的、远端的和/或近端的端部区段（40、60）构造为朝向缝隙端部变细的结构。

主权项

用于掩膜蚀刻出一种刺穿元件（14）的方法，所述刺穿元件具有：纵长延伸的杆部（16）；在远端伸出的尖端（18）；近端的保持件（20）；以及沿着所述杆部（16）一直伸展到所述尖端（18）的区域中的、在侧面敞开的、用于体液的收集槽（22），其中将双侧面的蚀刻掩膜（10）施加到基体（12）的两个侧面上，并且在蚀刻剂的作用下作为成形蚀刻件地形成所述刺穿元件（14），其中给所述蚀刻掩膜（10）的槽侧面（28）配备了用于单面地蚀刻出所述收集槽（22）的槽蚀刻缝隙（38），其特征在于，所述槽蚀刻缝隙（38）的、近端的和/或远端的端部区段（40、60）构造为朝向缝隙端部变细的结构。