一种用于卷绕式溅射三层介质膜的镀膜装置及镀膜方法

摘要

本发明涉及一种应用在卷绕式溅射三层介质膜的镀膜装置及镀膜方法。该镀膜装置，包括有：冷辊、驱动冷辊的主电机、包覆住冷辊的真空腔、放卷机构、收卷机构和五个阴极小室，所述五个阴极小室中的中间三个阴极小室结构相同均为双靶阴极小室，双靶阴极小室中的阴极靶体为两个阴极溅射靶，五个阴极小室中的两侧的两个阴极小室结构相同均为单靶阴极小室，单靶阴极小室的阴极靶体为一个阴极溅射靶。采用上述结构后，本发明利用中间的三个双靶阴极小室采用相同的气氛对三层介质膜的中间介质膜进行溅射，延长了中间介质膜的成膜时间，双靶阴极的溅射靶距更为精确。

主权项

一种用于卷绕式溅射三层介质膜的镀膜装置，其特征在于：包括有：冷辊、驱动冷辊的主电机、包覆住冷辊的真空腔、放卷机构、收卷机构和五个阴极小室，其中，放卷机构、收卷机构和五个阴极小室均内置于真空腔内，放卷机构通过原料薄膜绕过冷辊的圆周表面传输到收卷机构实现三者的同步联动，所述真空腔包覆住冷辊的部分为圆柱形腔体，五个阴极小室间隔排列在所述圆柱形腔体的内壁上且向外伸凸形成腔室凸包，所述阴极小室包括有阴极靶体、冷却水管、补气机构、抽真空机构、气氛隔离板，阴极靶体对应着冷辊上的原料薄膜设置在阴极小室内，冷却水管分布在阴极小室的侧壁，补气机构由外部的补气单元连通到对应的阴极小室内，抽真空机构由外部的抽真空机连通到阴极小室内，气氛隔离板间隔设置在两相邻的阴极小室之间；所述五个阴极小室中的中间三个阴极小室结构相同均为双靶阴极小室，双靶阴极小室中的阴极靶体为两个阴极溅射靶，五个阴极小室中的两侧的两个阴极小室结构相同均为单靶阴极小室，单靶阴极小室的阴极靶体为一个阴极溅射靶。