发明名称 |
设有势垒齐纳二极管的低压瞬时电压抑制器 |
摘要 |
本发明公开了一设有势垒齐纳二极管的低压瞬时电压抑制器。该低压瞬时电压抑制器(TVS)是基于一位于N+衬底上的N型外延层内的横向JFET,其由一埋入式P型本体区域与一表面P型区域所形成。该两个P型本体区域间的掺杂级与距离是可选择的,因此该JFET沟道被内建结势垒完全耗尽,由此增加一势垒。此器件在阳极电压低于势垒电压时呈现出低漏电流,并且当阳极电压超过势垒电压时进行电流传导。该器件的结构中还具有一固有的开放式基极垂直NPN结构。在高电流时,电流从该JFET沟道转换流至垂直NPN晶体管,因此提供好的钳制性能。TVS的触发电压与JFET的势垒电压相同,可以通过调整沟道与P型本体区域的宽度、长度、掺杂值来调整。 |
申请公布号 |
CN101826716B |
申请公布日期 |
2014.05.21 |
申请号 |
CN200910004549.7 |
申请日期 |
2009.03.05 |
申请人 |
万国半导体股份有限公司 |
发明人 |
马督儿·博德;何佩天 |
分类号 |
H01L23/62(2006.01)I;H02H3/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/62(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
张静洁;王敏杰 |
主权项 |
一种低压瞬时电压抑制器,其设置在具有一顶面与一底面的第一导电型态的半导体衬底上,其特征在于,该低压瞬时电压抑制器包含:一第一导电型态的表面源极/集电极区域,其设置在该半导体衬底的第一顶面区域上;一第二导电型态的表面本体掺杂区域,其位于该半导体衬底的一第二顶面区域,且该第二导电型态与该第一导电型态相反;一第二导电型态的埋入式本体掺杂区域,其位于该表面本体掺杂区域下方,以形成一横向结场效应晶体管的势垒沟道,从而作为势垒;其中所述的表面源极/集电极区域、所述的埋入式本体掺杂区域与衬底表面构成一垂直双极型晶体管,以传导一瞬时电流通过该表面源极/集电极区域与该衬底,来箝制一位于该表面源极/集电极区域与该衬底之间的电压;所述的埋入式本体掺杂区域横向延伸到该表面源极/集电极区域下方;所述的表面源极/集电极区域连接到一阳极电极,所述的衬底的底面连接到一阴极电极。 |
地址 |
百慕大哈密尔敦维多利亚街22号佳能院 |