| 发明名称 | 一种深紫外化学增幅型正性光致抗蚀剂 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种深紫外化学增幅型正性光致抗蚀剂。本发明的深紫外化学增幅型正性光致抗蚀剂包括环戊烯海松酸、二乙烯基醚、光产酸剂和有机溶剂。本发明的深紫外化学增幅型正性光致抗蚀剂具有良好的感度和良好的透明性。 | ||
| 申请公布号 | CN102929102B | 申请公布日期 | 2014.05.21 |
| 申请号 | CN201210429479.1 | 申请日期 | 2012.10.31 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 刘陆;薛建设;惠官宝 |
| 分类号 | G03F7/039(2006.01)I;C07C61/29(2006.01)I;C07C51/353(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/039(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 钟晶;於毓桢 |
| 主权项 | 1.一种正性光致抗蚀剂，包括环戊烯海松酸、二乙烯基醚、光产酸剂和有机溶剂，所述环戊烯海松酸和所述二乙烯基醚的摩尔比范围为5:4～1:2，所述环戊烯海松酸的结构式如下<img file="FDA0000430221860000011.GIF" wi="382" he="451" /> | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||