薄膜形成装置及利用该装置的薄膜形成方法

摘要

本发明公开了薄膜形成装置和采用该装置的薄膜形成方法。所公开的薄膜形成装置包括：形成有阻断部和开放部的掩模板；以及通过该掩模板的开放部喷射蚀刻气体、以与图案相对应地蚀刻薄膜的蚀刻源；在掩模板设置有气体吹动器，其中，所述气体吹动器向开放部周围吹入气体以使得蚀刻气体不会渗透至与阻断部对应的薄膜区域。根据如上所述的构成，可以在准确地保护薄膜的正常残留区域的情况下进行准确的图案化，因此当采用上述装置或方法时，可以稳定产品的质量，并且提高生产效率。

主权项

一种薄膜形成装置，包括：掩模板，具有用于形成预定图案的阻断部和开放部，并且设置在形成有薄膜的基板上；以及蚀刻源，通过所述掩模板的开放部喷射蚀刻气体，从而与所述图案相对应地蚀刻所述薄膜；其中，所述掩模板具有用于向所述开放部周围吹入气体以使得所述蚀刻气体不会渗透至与所述阻断部对应的薄膜区域的气体吹动器。