发明名称 真空吸附式吸盘
摘要 本实用新型公开了一种真空吸附式吸盘,包括外挂件连接座(2)、上盖(3)、下盖(7)、吸附盘(11),吸附盘(11)上设有吸盘连接头(10),外挂件连接座(2)与吸盘连接头(10)固定连接,所述的上盖(3)和下盖(7)套设在吸盘连接头(10)上,上盖(3)内设有螺纹牙(4),每段螺纹牙(4)的头部设有上盖上限位台阶(5),其尾部设有上盖螺纹下限位端(14);所述的下盖(7)上设有与螺纹牙(4)相配合的螺纹槽(15),每段螺纹槽(15)的头部设有与上盖上限位台阶(5)相配合的下盖上限位台阶(6),其尾部设有与上盖螺纹下限位端(14)相配合的下盖下限位挡块(8)。采用本结构后,具有结构简单合理、操作使用方便、吸附牢固可靠、吸附盘反复使用变形小等优点。
申请公布号 CN203604414U 申请公布日期 2014.05.21
申请号 CN201320827649.1 申请日期 2013.12.17
申请人 卢英姿 发明人 卢英姿
分类号 F16B47/00(2006.01)I 主分类号 F16B47/00(2006.01)I
代理机构 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人 李德强
主权项 一种真空吸附式吸盘,包括外挂件连接座(2)、上盖(3)、下盖(7)、吸附盘(11),吸附盘(11)上设有吸盘连接头(10),外挂件连接座(2)与吸盘连接头(10)固定连接,其特征是:所述的上盖(3)和下盖(7)套设在吸盘连接头(10)上,上盖(3)内设有螺纹牙(4),每段螺纹牙(4)的头部设有上盖上限位台阶(5),其尾部设有上盖螺纹下限位端(14);所述的下盖(7)上设有与螺纹牙(4)相配合的螺纹槽(15),每段螺纹槽(15)的头部设有与上盖上限位台阶(5)相配合的下盖上限位台阶(6),其尾部设有与上盖螺纹下限位端(14)相配合的下盖下限位挡块(8)。
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