| 发明名称 | 一种酸性化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种酸性化学机械抛光液，包括研磨颗粒，水，氧化剂，以及磨削促进剂，该磨削促进剂能溶解在抛光液中并电离出金属离子。该抛光液可用于抛光存储器硬盘，并能够在对存储器硬盘基片进行经抛光的过程中防止形成微凸起、微凹坑和其它表面缺陷，同时保证较高的抛光速率。 | ||
| 申请公布号 | CN103806002A | 申请公布日期 | 2014.05.21 |
| 申请号 | CN201210445896.5 | 申请日期 | 2012.11.09 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 高嫄;王雨春 |
| 分类号 | C23F3/06(2006.01)I;C23F3/03(2006.01)I | 主分类号 | C23F3/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种酸性化学机械抛光液，含有：研磨颗粒，水，氧化剂，其特征在于：所述抛光液还含有磨削促进剂，所述磨削促进剂能溶解在抛光液中并电离出金属离子。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室 | ||