一种离子注入系统中束流均匀性调节装置

摘要

本发明公开了一种离子注入系统中束流均匀性调节装置，包括：束线通路(1)、线圈上、下侧盖板(2)、多极线圈小磁极(3)、多极线圈(4)、上、下底板(5)、冷却水管道(6)、接线端子(7)，其中包含上下对称布置12组多极线圈小磁极(3)和多极线圈(4)，其中，每一组多极线圈小磁极(3)和多极线圈(4)对称布置在束线通路(1)两侧，串联连接，由同一个电源供电；共有12个电源单独供电，通过调节线圈内的电流，在束线通路(1)内产生不同的磁场分布，达到调节束线路径的目的。本发明涉及离子注入装置，隶属于半导体制造领域。

主权项

一种离子注入系统中束流均匀性调节装置，包括：束线通路(1)、线圈上、下侧盖板(2)和(8)、多极线圈小磁极(3)、多极线圈(4)、上、下底板(5)和(9)、冷却管道(6)、接线端子(7)，其特征在于：调节装置上下对称布置在束线通路(1)两侧。